Mască revitalizantă de păr Napura Sun System Recovery Mask
200 ml
- Detalii
- Descriere
- Mod de utilizare
- Compoziție
-
Vârsta:
18+
Brand: napura
Seria: sun
Gama de produse: mască pentru păr
Scopul produsului: hidratare, revitalizare
Volum: 200 ml
Ingrediente: acid salicilic, avocado, cacao, caşmir, proteine
Timpul administrării: universal
Sex: pentru femei
Clasificarea: profesional
Tip de păr: toate tipurile de păr
Țara TM: Italia
Produs în: Italia
Napura Sun System Recovery Mask - mască revitalizantă pentru reconstrucția părului după expunerea la soare. Restaurează perfect părul profund deteriorat, neutralizând efectele clorului și ale sării, în timp ce hidratează firele. Proteinele de cașmir protejează și întăresc părul, îi îmbunătățesc elasticitatea și promovează hidratarea internă. Extractele de Althea și de cacao netezesc și sigilează solzii părului, redând moliciune și strălucire. Uleiul de avocado păstrează culoarea naturală a buclelor, adaugă strălucire și asigură o pieptănare ușoară, ceea ce face ca produsul să fie ideal pentru toate tipurile de păr.
Ingrediente active: proteine de cașmir, extract de Althea, extract de cacao, ulei de avocado.
-
Aplicați produsul pe părul spălat cu șampon, distribuiți pe toată lungimea și lăsați să acționeze timp de 3-5 minute, apoi clătiți bine cu apă caldă.
-
AQUA, CETEARYL ALCOHOL, OCTYLDECANOL, PROPYLENE GLYCOL, CETRIMONIUM CHLORIDE, BEHENTRIMONIUM CHLORIDE, PARFUM, HYDROXYPROPYLTRIMONIUM HYDROLYZED WHEAT PROTEIN, SIMMONDSIA CHINENSIS SEED OIL, PERSEA GRATISSIMA OIL, THEOBROMA CACAO SEED EXTRACT, ALTHAEA OFFICINALIS ROOT EXTRACT, HYDROLYZED SWEET ALMOND PROTEIN, NYMPHAEA ALBA ROOT EXTRACT, HYDROLYZED KERATIN, PHENETHYL ALCOHOL, PROPANEDIOL, CITRIC ACID, UNDECYL ALCOHOL, BENZYL SALICYLATE, SODIUM DEHYDROACETATE, LINALOOL, HEXYL CINNAMAL, GERANIOL, LIMONENE.
Reface inteligent, în special vârfurile părului)
Este o masca de par extraordinar de buna!! Imi lasa un par atat de catifelat si placut la atingere!!